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电化学沉积WS3薄膜及其忆阻特性研究-现代信息科技2024年15期

电化学沉积WS3薄膜及其忆阻特性研究

作者:段尧禹 万茜 字体:      

摘  要:对基于二维材料的垂直阵列忆阻器进行了研究。面对二维材料生长窗口狭窄,难以制备大面积单晶等挑战,通过可控电化学沉积沉积了大面积WS3薄膜。基于WS3薄膜制备了垂直阵列结构忆阻器件。对2×2的4个忆阻(试读)...

现代信息科技

2024年第15期